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会上，董事长简述了百思个人生长的畴昔和将来，并为与会职员描画了百思宏伟蓝图及夸姣的远景与将来，极年夜的奋发和鼓舞了员工士气；并请求全部员工“顺时势、树典范、明思路、分步调、理关系”，相互共同、主动主动地展开事情，为个人接上去的各项事情有序展开打下坚固的根本。
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随后，李总讲授了股权鼓励的思惟和计划，阐述在市场合作狠恶明天，公司运营体制必须向更优、更强标的目标迈进，而股权鼓励就是很好体例，引凤筑巢，分股合心，集结人才，在共同奇迹中互动、升华，成绩年夜家更夸姣的将来！
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接上去，迎来本次年夜会的首要环节－股权鼓励签约典礼，由董事长向鼓励工具献上光荣的鲜花，绶带，颁布签约本，并宣誓合影纪念
最后，鼓励工具代表车总、孙总别离为年夜家分享本身的拼搏的经历和成功的法门；年夜家也畅所欲言、高谈雄辩，现场氛围轻松、活泼。
“股改放飞胡想，立异引领将来”本次个人公司实施股权鼓励政策，必将对企业高质量生长具有本色性鞭策感化，在企业生长史上写上浓墨重彩的一笔。最后我们祝贺百思个人借股权鼓励启动春风，获得辉煌事迹，共赢夸姣明天！
一 装备技术请求：
可以用于蒸镀半导体、金属膜，纳米级单层及多层服从膜。
1、真空室：
1.1、真空室内腔尺寸：500×500×750mm
1.2、真空室质料：全部真空室采取 SUS304 不锈钢质料制造，内大要抛光，外大要喷丸措置；极限真空度高。
1.3、真空室布局：真空室四周配有不锈钢防污染樊篱板（供应两套、一套备用）；前开门后置抽气体系布局，四壁壳体外壳水冷，采取不锈钢水冷槽通水冷却。
1.4、察看窗：Φ100mm察看窗2个，察看窗内有遮挡活动板，配有两套防辐射射玻璃（一套备用）。
1.5、CF35陶瓷封接引线法兰：2个（照明及内烘烤引线1个、预留空置6芯电极法兰1个）
1.6、晶振膜厚仪接口1个
2、工件架扭转与烘烤：
2.1、采取调速机电调度转速、磁流体密封；3 到 60rpm 无级调速，
2.2、样品托盘尺寸别离为：采取吊挂式布局按放样品各一套，详细可参考加工图纸与贵方确认后再加工。
2套盘的开孔尺寸按买方需求由乙方设想并加工，两边和谈。
2.3、样品台采取液氮冷却。
2.4、基片与蒸发源之间间隔550～650mm可调，由腔外电动波纹管调度机构在线节制；
3、等离子体产生器
3.1、离子轰击：轰击电压3000V,电流160mA及以上。可洗濯样品大要。
3.2、配轰击铝棒1根
3.3、配套质量流量计一套。
4、蒸发源：
电子束蒸发源：
4.1、用超高真空E型电子枪；
4.2、270°E型电子枪及高压电源，电子枪功率0--8KW可调；
4.3、电子枪阳极电压：8kv、10 kv；两挡
4.4、电子束可二维扫描调度，最年夜扫描正负15mm（X，Y）；
4.5六工位水冷式电动坩埚；每穴容积11-22ml
4.6、可调角度气动节制蒸发挡板，采取磁流体密封；
4.7、电子枪配有触摸屏，可远控；
4.8、带有高压灭弧主动复位服从。
电阻蒸发源：
装备一套电阻蒸发源，含一套2KW数字式蒸发电源。
★5、真空抽气体系
5.1、复合分子泵与节制电源：可达6.0×10-5Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s，真空室从年夜气到抽到≤6.0×10-4Pa，小于40min。
5.2、分子泵与真空室连接采取DN250气动挡板阀门；
5.3、机器泵和分子泵连接采取不锈钢金属波纹管；
5.4体系漏率：体系停泵关机12小时后，真空室的真空度≤10Pa。
6、膜厚节制：
采取石英晶体振荡膜厚节制仪
◇用于监控镀膜蒸发速率及节制膜层物理厚度
◇配单个水冷探头
◇监测膜厚显现范围：0～99μ9999Å
◇厚度辩白率：0.1Å
◇速率显现辩白率： 0～9999.9 Å
◇节制精度： 0.1 Å
◇可与电子枪联动，主动镀膜。
7、真空测量体系：
复合数显真空计
热偶规： 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa
电离规：（CF35刀口法兰） 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa
8、水冷体系
装备水冷循环体系：满足装备需求（功率年夜于2kW）
9、其他：
9.1不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等
9.2产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈 1套
9.3电子枪灯丝 5
9.4坩埚 10
9.5 配一套质量流量计，用来节制工艺气体通断。
二 首要技术机能目标
2.1体系布局道理
该体系为单真空室建设，真空室尺寸500×500×750mm3（按照设想需求恰当调剂），腔体采取304不锈钢加工而成，内大要抛光，外大要喷丸措置。为便于尝试操纵采取侧开门情势，抽气口后置，门上装备玻璃察看窗（含防污染挡板），考虑到装备清理及保护的需求，真空室上盖可开启，镀膜过程在该真空室内完成。同时考虑到体系拓展需求，预留所需法兰接口。
电子枪及蒸发电极装置在真空底板上。电子枪选勤奋率为8KW、六工位水冷坩埚E型电子枪。
基片架采取焊接波纹管+磁流体布局，样品托采取拱形布局，最年夜直径为350mm，蒸距450-550 mm可调，操纵焊接波纹管变形获得。基片转速率3-60转/分，可控可调（步进机电节制）。结果图以下所示：
别的样品台可扭转，可加液氮冷却。
2.2 真空获得道理
真空获得体系采取分子泵+机器泵机组来实现：操纵涡轮分子泵作为主泵，机器旋片泵作为预抽+前级泵对真空室抽气
真空度节制经由过程和主泵相连的挡板阀来实现，各种阀门均采取超高真空阀门辅以金属密封；管道及接
口采取紧密不锈钢管、压抑波纹管束作而成。
三 堆积体系
3.1电子枪
如图3所示:
本装备配套电子枪的长处：
1、是仿日本焦耳电子枪可与焦耳电子枪机能相当。
2、能量漫衍均匀，束斑小，垂直入射，电子枪不挖坑，根基上平面团体蒸发，光斑直径￠5-￠25可调，扫描体例方形、圆欢圆面可设，并可记忆16位坩埚扫描频次、幅度年夜小、扫描体例及斑点地位。对操纵者依耐烦减少，使产品的反复性获得比较年夜的改良。
3、 X Y频次高，能高速扫描，10---250HZ。
4、各单位为分体式便利维修和查抄。
扫描电源长处：
1采取海内先进技术智妙手操器，经由过程串行总线I2C与扫描主机连接，运行安端赖得住；能节制束斑 束流 坩埚 挡板等。
2能与计较机通信，并有RS232（或RS485）通信接口，对镀膜装备实现主动节制起到首要感化。
3束斑地位记忆，在人工形式下能对束斑地位及年夜小，频次 波形形式 16位坩埚记忆服从。
4环行面积密度可挑选1---20条，X标的目标的上下电流可设置，从而庇护光斑不打到坩埚下面。
5偏磁体例：改进型永久磁铁减少扎坑征象，可使电子束以垂直角度入射蒸镀膜料，及增加蒸发膜料的利用面积，并使膜料更加均匀的蒸发。
高压长处：
1伶仃的高压柜，采取日本焦耳电源节制体例，包管安端赖得住。
2电源仪器可用于50HZ 60HZ的电源；采取移相触发器节制体例，合用于阻性 理性负载，变压器一侧。
3节制装配有过流 过热 SCR庇护服从，具有软启动 软关断服从，减少对电网的打击滋扰。
4 高压具有恒流恒压服从，在空载与加负载时功率不变，对镀膜起非常首要感化。
3.2 电阻蒸发体系
体系装备一套水冷蒸发电极，以下图所示，蒸发电源电压5、10V可选，电流250A，最年夜输入功率2Kw，装备数显电流表；
别的蒸发源装备主动节制挡板：1套；
3.3 膜厚节制
体系装备石英晶振膜厚节制仪一套，含水冷探头1只。用于在线监测制备膜层厚度和膜层堆积速率等。
3.4 低温扭转样品台（选配。标配采取加热扭转样品台）
体系装备一套液氮冷却转台，转台示企图以下：
3.5 预留接口
为拓展真空室服从，可以遵循利用方的请求预留各种接口法兰。