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会上,董事长简述了百思个人生长的畴昔和将来,并为与会职员描画了百思宏伟蓝图及夸姣的远景与将来,极年夜的奋发和鼓舞了员工士气;并请求全部员工“顺时势、树典范、明思路、分步调、理关系”,相互共同、主动主动地展开事情,为个人接上去的各项事情有序展开打下坚固的根本。
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随后,李总讲授了股权鼓励的思惟和计划,阐述在市场合作狠恶明天,公司运营体制必须向更优、更强标的目标迈进,而股权鼓励就是很好体例,引凤筑巢,分股合心,集结人才,在共同奇迹中互动、升华,成绩年夜家更夸姣的将来!
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接上去,迎来本次年夜会的首要环节-股权鼓励签约典礼,由董事长向鼓励工具献上光荣的鲜花,绶带,颁布签约本,并宣誓合影纪念
最后,鼓励工具代表车总、孙总别离为年夜家分享本身的拼搏的经历和成功的法门;年夜家也畅所欲言、高谈雄辩,现场氛围轻松、活泼。
“股改放飞胡想,立异引领将来”本次个人公司实施股权鼓励政策,必将对企业高质量生长具有本色性鞭策感化,在企业生长史上写上浓墨重彩的一笔。最后我们祝贺百思个人借股权鼓励启动春风,获得辉煌事迹,共赢夸姣明天!
细节揭示
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零件事情环境
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全部管子辉光环境
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高真空下辉光环境
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PECVD 体系
微型PECVD体系,它包含小型真空管式炉,石英真空室、真空抽气与真空测量体系、气路体系、射频电源体系、物料放射体系。电源范围宽:0-150W可调; 温度范围宽:100-1200度可调;溅射地区宽:0-600mm可调;合用范围宽:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,持续生长各种薄膜等。增加服从容易,可扩展等离子洗濯刻蚀等服从。
首要特性
1. 薄膜堆积速率高:采取了甚高频技术,年夜年夜的进步了薄膜的堆积速率,堆积速率可达10Å/S;
2. 年夜面积均匀性高:采取了先进的多点射频馈动技术,特别气路漫衍和加热技术等,使得薄膜均匀性目标到达8%;
3. 分歧性高:用半导体行业的先进设想理念,使得一次堆积的各基片之间偏差低于2%;
4. 工艺不变性高:高度不变的装备包管了工艺的持续和不变;
5. 选配物料放射体系,可将质料直接放射到反应区;
6.专利号:ZL201320052532.0 (专利产品,防伪必究)。
1.加热体系
最低温度 |
1200℃ |
利用温度 |
≤1100℃ |
炉膛有效尺寸 |
Φ80mm(合用于2-3英寸样品,炉管直径可按照实际需求定制。) |
炉膛质料 |
氧化铝、低温纤维成品 |
热电偶范例 |
K型热电偶 |
控温精度 |
±1℃ |
控温体例 |
30段可编程控温,PID参数自整定 |
加热长度 |
230mm |
加热原件 |
电阻丝 |
供电电源 |
单相,220V,50Hz |
2、PE体系
功率输入范围 |
0W~150W |
射频输入接口 |
50 Ω, N-type, female |
功率不变度 |
≤5W |
谐波分量 |
≤-50dbc |
供电电压 |
单订交换(187V-253V) 频次50/60HZ |
零件效力 |
>=70% |
功率身分 |
>=90% |
冷却体例 |
强迫风冷 |
3、三路质子流量节制体系
连讨论范例 |
双卡套不锈钢讨论 |
标准量程(N2) |
200sccm,500sccm、1000sccm (可按照用户请求定制) |
精确度 |
±1.5%F.S |
线性 |
±1%F.S |
反复精度 |
±0.2%F.S |
呼应时候 |
气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec |
事情压差范围 |
0.1~0.5 MPa |
最年夜压力 |
3MPa |
接口 |
Φ6,1/4'' |
显现 |
4位数字显现 |
事情环境温度 |
5~45高纯气体 |
压力真空表 |
-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
停止阀 |
Φ6 |
表里双抛不锈钢管 |
Φ6 |
4、低真空机组
氛围相对湿度 |
≤85% |
事情环境 |
5℃~40℃ |
事情电电压 |
220V±10% 50~60HZ |
功率 |
1KW |
抽气速率 |
10m³/h |
极限真空 |
5X10-1Pa |
事情压力范围 |
1.01325X105~1.33X10-2Pa |
耐压值 |
0.03MPa |
容油量 |
1.1L |
进气口口径 |
KF25 |
排气口口径 |
KF25 |
噪音 |
50dB |
连接体例 |
采取波纹管,手动挡板阀与波纹管相连 |