持续收支料等离子体加强反转展转PECVD装备-BTF-1200C-RP-PECVD

　　1、首要特性

　　该款装备是全主动Plasma加强CVD体系(PECVD)，持续可控温度和Plasma强度等，装备真空体系，可以高压前提下实现工艺，PECVD体系能使全部尝试腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的处理了传统等离子事情不不变状况，该装备炉管可360°扭转，有助于粉料的烧结更均匀，可年夜角度倾斜，便利收支料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料颠末的管道都选用非金属材质，如：收支料腔体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。

　　2、布局与道理图：

布局图

    装备构成：加热体系，Plasma体系，进料体系，出料体系，气体节制体系，低真空体系，气料分离体系，过滤体系，炉管动弹体系，电控操纵体系。

　　(1)加热体系：

　　该加热体系的加热腔体采取氧化铝纤维成品，其极低的热导率和比热容，包管了炉膛的疾速升暖和低蓄热，特别适合于科研单位的质料工艺研究。加热元件选用电阻丝加热，适合中低温度加热体系。低温真空电阻炉温度节制体系采取典范的闭环负反应节制体系，控温仪表选用智能型法度温度调度仪表控温，电力调制器节制;负载采取小电压年夜电流节制，从而年夜年夜进步了发热元件的寿命，测温元件采取K型热偶。采取单回路温控仪可以或许自整定PID 参数，不必操纵职员的干预，可自行按照不合温度曲线的升、降温请求调剂输入旌旗灯号，同时体系设置了超温、欠温、断偶报警庇护服从，年夜年夜降落了对操纵职员经历的请求。

　　(2)Plasma体系：

    本体系借助于辉光放电产生等离子体，辉光放电等离子体中，电子密度高，经由过程反应气态放电，有效操纵了非均衡等离子体的反应特性，从底子上改变了反应体系的能量供应体例。

　　(3)进料体系：

　　送料体系速率持续可调，停止送料且炉体倾斜最年夜时，物料不会从送料体系外漏，送料体系便利装配，装配后可手动加料，装备可一般运行。

　　(4)出料体系：

　　出料体系在炉体倾斜出料时可主动出料。

　　(5)气体节制体系：

　　该控气体系是可以节制两种气体遵循不合流量进行异化配比的，也能够自力节制，质量流量计装置于密封的可挪动的机柜内，由超洁双抛不锈钢管与紧密双卡套讨论连接构成。

　　(6)低真空体系：

　　该体系装备真空机器泵，可以抽真空，可让装备在真空环境下进行反应。

    (7)气料分离体系：

　　该体系可让装备在充气体庇护或抽真空时，实现气体与物料的分离。

　　(8)过滤体系：

　　该体系可避免物料进入真空泵，包管真空泵的一般运行。

　　(9)炉管动弹体系：

　　炉管动弹体系可让炉管360°匀速动弹，转速在0-60r/min持续可调，且能在60r/min转速下长时候运行。

　　3、技术目标：

　　(1)该装备炉管可360度扭转，管内壁有石英挡片帮忙粉料翻转有助于烧结得更均匀;

　　(2)全部炉子和送料、收料体系可以或许一路倾斜，便利出放料，倾斜角度在0~35°之间可调;

　　(3)送料体系送料速率持续可调，停止送料且炉体最年夜倾斜时，物料不从送料体系外漏。送料体系便利装配，装配以后可以手动加料，装备可一般运行。

　　(4)炉管反转展转不变，不会上下摆布跳动;转速在0~60r/min持续可调，能在60r/min转速下持续持久运转(>24h)。

　　(5)炉子转速，加料速率，倾斜角度，真空度，气体流量，温度，运行时候，等离子体功率等参数都用数字显现，并在运行过程记录装备全部运行轨迹及上述参数(在工控及自力电脑上均能实现);

　　(6)装备运行可分为手动形式与主动形式;主动形式下可实现高度主动化运行，所有参数法度设定好后主动运行：可实现遵循设定法度持续事情，可设置多事情段不合参数，并可进行某事情段循环事情及某法度循环事情;